Sample creation device, creation method, and charged particle beam device using same

WO2013001700 Art A1 3. Januar 2013

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013001700
Aktenzeichen: EP12804324
Anmeldetag: 25. April 2012
Veröffentlichung: 3. Januar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/20B23K15/00G01N1/28G01N23/225

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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