Co-cr-pt-b alloy sputtering target and method for producing same
WO2013001943
Art A1
3. Januar 2013
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013001943
- Aktenzeichen
- EP12805143
- Anmeldetag
- 22. Mai 2012
- Veröffentlichung
- 3. Januar 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34C22C19/07C22C30/00C22C30/02C22F1/10C22F1/16G11B5/851C22F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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