Method of forming pattern and actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition

WO2013002295 Art A1 3. Januar 2013

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013002295
Aktenzeichen: EP12803581
Anmeldetag: 21. Juni 2012
Veröffentlichung: 3. Januar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038C08F220/18C08F220/28G03F7/039G03F7/32H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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