Pedestal with edge gas deflector for edge profile control

WO2013006241 Art A2 10. Januar 2013

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013006241
Aktenzeichen: EP12808198
Anmeldetag: 5. Juni 2012
Veröffentlichung: 10. Januar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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