Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film and pattern forming method each using the composition, manufacturing method of electronic device and electronic device

WO2013008700 Art A1 17. Januar 2013

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013008700
Aktenzeichen: EP12811845
Anmeldetag: 28. Juni 2012
Veröffentlichung: 17. Januar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C309/06C07C309/17C07C311/48C07D209/88C07D307/91C07D333/76C07D409/14C08K5/00C08L101/00G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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