Method for automatically determining inspection conditions and measurement conditions of sample, and scanning microscope

WO2013011792 Art A1 24. Januar 2013

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013011792
Aktenzeichen: EP12814818
Anmeldetag: 20. Juni 2012
Veröffentlichung: 24. Januar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/20H01J37/22H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von