Microlithographic exposure method

WO2013013894 Art A1 31. Januar 2013

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013013894
Aktenzeichen: EP12733441
Anmeldetag: 18. Juni 2012
Veröffentlichung: 31. Januar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G02B26/08G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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