Charged particle beam apparatus and measuring method

WO2013015040 Art A1 31. Januar 2013

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013015040
Aktenzeichen: EP12817235
Anmeldetag: 18. Juni 2012
Veröffentlichung: 31. Januar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/22G01B15/00G01B15/04H01J37/147H01J37/244H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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