Plasma device and method for producing carbon thin film using same

WO2013015280 Art A1 31. Januar 2013

Anmelder: Nissin Electric Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013015280
Aktenzeichen: EP12816929
Anmeldetag: 24. Juli 2012
Veröffentlichung: 31. Januar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/24C01B31/02C23C14/00C23C14/06C23C16/26C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissin Electric Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissin Electric

Nissin Electric ist ein japanischer Hersteller elektrischer Anlagen und Halbleiterfertigungsausrüstung mit Sitz in Kyoto. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleitertechnik und Metallurgie, ergänzt durch Schaltungs- und Energietechnik. Die Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2025.

274 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von