Method for etching atomic layer of graphine

WO2013015559 Art A2 31. Januar 2013

Anmelder: Research & Business Foundation Sungkyunkwan University 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013015559
Aktenzeichen: EP12817430
Anmeldetag: 19. Juli 2012
Veröffentlichung: 31. Januar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C01B31/02B01J19/08H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Research & Business Foundation Sungkyunkwan University
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Research & Business Foundation Sungkyunkwan University

Die Research & Business Foundation Sungkyunkwan University ist die Technologietransfer- und Patentverwertungsstelle der südkoreanischen Sungkyunkwan-Universität. Das Portfolio streut breit über Medizintechnik, Halbleiter und Nachrichtentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Mess- und Softwaretechnik. Anmeldungen stammen aus den Jahren 2011 bis 2025.

427 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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