Defect inspecting apparatus and defect inspecting method

WO2013018255 Art A1 7. Februar 2013

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013018255
Aktenzeichen: EP12820403
Anmeldetag: 14. Mai 2012
Veröffentlichung: 7. Februar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956G02F1/13H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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