Treatment liquid supply device, treatment liquid supply method and computer storage medium

WO2013018414 Art A1 7. Februar 2013

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013018414
Aktenzeichen: EP12819588
Anmeldetag: 15. Mai 2012
Veröffentlichung: 7. Februar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/82G03F7/30H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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