Resist developer, process for forming resist pattern and process for producing mold
WO2013018569
Art A1
7. Februar 2013
Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013018569
- Aktenzeichen
- EP12819337
- Anmeldetag
- 23. Juli 2012
- Veröffentlichung
- 7. Februar 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/32G03F7/039H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hoya Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hoya
Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.
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Vertreten von
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