Method for correcting alignment of substrate to be exposed, and exposure device
WO2013018762
Art A1
7. Februar 2013
Anmelder: V Technology Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013018762
- Aktenzeichen
- EP12820314
- Anmeldetag
- 30. Juli 2012
- Veröffentlichung
- 7. Februar 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F9/00G03F7/20H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- V Technology Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
V Technology
V Technology ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für Displays und Halbleiter. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik, ergänzt um Fertigungs- und Messtechnik. Anmeldungen laufen von 2005 bis in die Gegenwart.
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