Photosensitive resin composition, photosensitive film, permanent resist and method for producing permanent resist

WO2013022068 Art A1 14. Februar 2013

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013022068
Aktenzeichen: EP12822595
Anmeldetag: 9. August 2012
Veröffentlichung: 14. Februar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027C08G59/68C08K3/36C08L63/00G03F7/004H05K3/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von