Composite photon sieve projection lithography system

WO2013023357 Art A1 21. Februar 2013

Anmelder: Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013023357
Aktenzeichen: EP11870942
Anmeldetag: 16. August 2011
Veröffentlichung: 21. Februar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B5/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences

Chinesisches Forschungsinstitut der Chinese Academy of Sciences mit Schwerpunkt auf Mikroelektronik und Halbleitertechnologie. Patente betreffen Chipdesign und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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