Mold release processing method for nanoimprinting molds, production method employing the mold release processing method, nanoimprinting method, and method for producing patterned substrates

WO2013024833 Art A1 21. Februar 2013

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013024833
Aktenzeichen: EP12824589
Anmeldetag: 6. August 2012
Veröffentlichung: 21. Februar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: B29C33/38B29C33/58B29C59/02H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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