Methods of coating surfaces using initiated plasma-enhanced chemical vapor deposition

WO2013025480 Art A1 21. Februar 2013

Anmelder: Massachusetts Institute of Technology 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013025480
Aktenzeichen: EP12748348
Anmeldetag: 10. August 2012
Veröffentlichung: 21. Februar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: B05D7/00B05D7/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Massachusetts Institute of Technology
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Massachusetts Institute of Technology

US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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