Exposure apparatus and method for the patterned exposure of a light-sensitive layer

WO2013026750 Art A1 28. Februar 2013

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013026750
Aktenzeichen: EP12751044
Anmeldetag: 15. August 2012
Veröffentlichung: 28. Februar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/64G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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