Ferromagnetic sputtering target with minimized particle generation

WO2013027443 Art A1 28. Februar 2013

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013027443
Aktenzeichen: EP12824989
Anmeldetag: 6. April 2012
Veröffentlichung: 28. Februar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C22C19/07G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

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