Active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active light-sensitive or radiation-sensitive film using active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and pattern forming method

WO2013027521 Art A1 28. Februar 2013

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013027521
Aktenzeichen: EP12825362
Anmeldetag: 23. Juli 2012
Veröffentlichung: 28. Februar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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