Photosensitive resin composition, and photosensitive film, photosensitive laminate, method for forming permanent pattern, and printed substrate using same

WO2013027646 Art A1 28. Februar 2013

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013027646
Aktenzeichen: EP12825796
Anmeldetag: 16. August 2012
Veröffentlichung: 28. Februar 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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