Negative active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using same, resist-coated mask blank, resist pattern forming method, and photomask

WO2013031686 Art A1 7. März 2013

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013031686
Aktenzeichen: EP12826754
Anmeldetag: 24. August 2012
Veröffentlichung: 7. März 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/004H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von