A system and a method for depositing a layer on a substrate
WO2013032406
Art A1
7. März 2013
Anmelder: National University of Singapore 🇸🇬
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013032406
- Aktenzeichen
- EP12826710
- Anmeldetag
- 31. August 2012
- Veröffentlichung
- 7. März 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C16/513H05H1/24H05H1/42C23C16/54
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- National University of Singapore
- Land
- 🇸🇬 Singapur
🇸🇬
National University of Singapore
Staatliche Universität in Singapur, eine der größten und international bestbewerteten Hochschulen Asiens. Sie ist in Forschung und Lehre breit aufgestellt, mit starken Ingenieur- und Naturwissenschaftsfakultäten.
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