Cooling ring for physical vapor deposition chamber target
WO2013033102
Art A1
7. März 2013
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013033102
- Aktenzeichen
- EP12827014
- Anmeldetag
- 28. August 2012
- Veröffentlichung
- 7. März 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34C23C14/35
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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