Method for the deposition of a porous coating

WO2013033132 Art A1 7. März 2013

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013033132
Aktenzeichen: EP12758942
Anmeldetag: 29. August 2012
Veröffentlichung: 7. März 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/22C23C16/24C23C16/28C23C16/22C23C16/452

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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