Ion beam device

WO2013035221 Art A1 14. März 2013

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013035221
Aktenzeichen: EP12830415
Anmeldetag: 28. Mai 2012
Veröffentlichung: 14. März 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01J27/26H01J37/08H01J37/18H01J37/28H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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