Liquid treatment apparatus for substrate, and method for controlling liquid treatment apparatus for substrate

WO2013035731 Art A1 14. März 2013

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013035731
Aktenzeichen: EP12829787
Anmeldetag: 5. September 2012
Veröffentlichung: 14. März 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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