Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device

WO2013035768 Art A1 14. März 2013

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Tohoku University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2013035768
Aktenzeichen
EP12830343
Anmeldetag
6. September 2012
Veröffentlichung
14. März 2013
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/768H01L21/316H01L21/318H01L23/532
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Tokyo Electron Limited
Tohoku University
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

2.158 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

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