Filling device and filling method

WO2013035851 Art A1 14. März 2013

Anmelder: Dia-Nitrix Co., Ltd., Mitsubishi Rayon Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013035851
Aktenzeichen: EP12830653
Anmeldetag: 7. September 2012
Veröffentlichung: 14. März 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C12M1/34B01J4/00B65B3/06B65B3/22B65B3/26

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Dia-Nitrix Co., Ltd.
Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Rayon

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, spezialisiert auf Kohlenstofffasern und Kunststoffe, seit 2017 als Mitsubishi Chemical firmierend.

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Fachgebiete

Pharma & Biotechnologie Verfahrens- & Trenntechnik Verpackungs- & Fördertechnik

Vertreten von