Method for manufacturing graphene film and pattern thereof

WO2013035900 Art A1 14. März 2013

Anmelder: Korea Advanced Institute Of Science And Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013035900
Aktenzeichen: EP11871861
Anmeldetag: 8. September 2011
Veröffentlichung: 14. März 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C01B31/02H01B1/04H01L31/042H01L21/331G01N27/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Korea Advanced Institute Of Science And Technology
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 KAIST

Südkoreanische technische Universität und Forschungsinstitution mit Fokus auf Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologieentwicklung, unter anderem in Robotik und Elektronik.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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