Fabricating method of thick film on large area substrate, thick film structure thereof, and back light unit and lcd using the same

WO2013035910 Art A1 14. März 2013

Anmelder: LG Innotek Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2013035910
Aktenzeichen
EP11872000
Anmeldetag
9. September 2011
Veröffentlichung
14. März 2013
Rechtsraum
WO
IPC
G02F1/1333G02F1/13357
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
LG Innotek Co., Ltd.
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 LG Innotek

Südkoreanisches Elektronikunternehmen mit Sitz in Seoul, Tochtergesellschaft der LG-Gruppe. Entwickelt Komponenten für Kamera- und Optikmodule, Halbleiterträger, Motoren und Materialien für Mobilgeräte, Fahrzeuge und Displays.

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