Apparatus and method for plasma ion implantation

WO2013035983 Art A1 14. März 2013

Anmelder: Korea Institute of Science and Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013035983
Aktenzeichen: EP12830434
Anmeldetag: 3. August 2012
Veröffentlichung: 14. März 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/317H01J37/20H01L21/265

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Korea Institute of Science and Technology
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Institute of Science and Technology

Südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Seoul, das interdisziplinäre Forschung in Naturwissenschaften, Ingenieurwesen und Materialtechnologie betreibt und zahlreiche Patente aus seinen Instituten hervorbringt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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