Photosensitive benzocyclobutene resin composition and preparation method and patterning method thereof

WO2013037197 Art A1 21. März 2013

Anmelder: Fudan University 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013037197
Aktenzeichen: EP12831943
Anmeldetag: 13. Februar 2012
Veröffentlichung: 21. März 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03C1/52G03F7/008

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fudan University
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Fudan University

Die Fudan University ist eine chinesische Eliteuniversität mit Sitz in Shanghai und breiter Forschung in Medizin und Chemie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie organische Chemie, ergänzt durch Pharma und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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