Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung der Verformung eines Substrates

WO2013037780 Art A1 21. März 2013

Anmelder: Aixtron SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013037780
Aktenzeichen: EP12772081
Anmeldetag: 12. September 2012
Veröffentlichung: 21. März 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/687H01L21/67C23C16/458

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Aixtron SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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