Oxide film deposition method and oxide film deposition device
WO2013038484
Art A1
21. März 2013
Anmelder: Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013038484
- Aktenzeichen
- EP11872257
- Anmeldetag
- 13. September 2011
- Veröffentlichung
- 21. März 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C01B13/34C23C16/44
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation
Japanisches Gemeinschaftsunternehmen von Toshiba und Mitsubishi Electric für industrielle Antriebssysteme, Motoren und Automatisierungstechnik.
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