Anordnung zur Thermischen Betätigung eines Spiegels bei einer Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsvorrichtung

WO2013041134 Art A1 28. März 2013

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013041134
Aktenzeichen: EP11775921
Anmeldetag: 21. September 2011
Veröffentlichung: 28. März 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B7/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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