Charged particle beam device, method for adjusting charged particle beam device, and method for observing sample or inspecting sample

WO2013042425 Art A1 28. März 2013

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013042425
Aktenzeichen: EP12832963
Anmeldetag: 4. Juli 2012
Veröffentlichung: 28. März 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/28G21K5/00G21K5/04H01J37/18H01J37/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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