Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

WO2013044936 Art A1 4. April 2013

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013044936
Aktenzeichen: EP11771017
Anmeldetag: 29. September 2011
Veröffentlichung: 4. April 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01S5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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