Plasma film forming apparatus

WO2013046286 Art A1 4. April 2013

Anmelder: Shimadzu Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013046286
Aktenzeichen: EP11872903
Anmeldetag: 26. September 2011
Veröffentlichung: 4. April 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/503C23C16/448H01L21/205H01L21/285H01L21/31

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shimadzu Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shimadzu

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Kyoto. Shimadzu entwickelt Analyse- und Messgeräte, medizinische Bildgebungssysteme sowie Komponenten für Luft- und Raumfahrt, Industrie und Wissenschaft.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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