Iron/platinum/carbon Sputtering Target
WO2013046882
Art A1
4. April 2013
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013046882
- Aktenzeichen
- EP12837155
- Anmeldetag
- 20. Juli 2012
- Veröffentlichung
- 4. April 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34C04B35/56G11B5/851
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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