Microwave radiating mechanism, surface wave plasma source, and surface wave plasma processing device

WO2013047000 Art A1 4. April 2013

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013047000
Aktenzeichen: EP12835911
Anmeldetag: 20. August 2012
Veröffentlichung: 4. April 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46H01L21/205H01L21/3065H05H1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von