Composition for forming film for liquid-immersion exposure, polymer, compound, and method for forming resist pattern

WO2013047044 Art A1 4. April 2013

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013047044
Aktenzeichen: EP12836983
Anmeldetag: 24. August 2012
Veröffentlichung: 4. April 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C08F24/00C07D307/46C07D307/94G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von