Nitride semiconductor fabrication device material washing method and nitride semiconductor fabrication device material washing device

WO2013047506 Art A1 4. April 2013

Anmelder: Taiyo Nippon Sanso Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013047506
Aktenzeichen: EP12836028
Anmeldetag: 25. September 2012
Veröffentlichung: 4. April 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B08B7/00C23C16/44H01L21/205H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Taiyo Nippon Sanso Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Taiyo Nippon Sanso

Taiyo Nippon Sanso ist ein japanischer Hersteller von Industriegasen und zugehörigen Anlagen, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Der Patentbestand konzentriert sich auf Verfahrens- und Trenntechnik sowie Wärme-, Fertigungs- und Werkstofftechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von