Photoresist composition and resist pattern forming method

WO2013047528 Art A1 4. April 2013

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013047528
Aktenzeichen: EP12835309
Anmeldetag: 25. September 2012
Veröffentlichung: 4. April 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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