Large-Area Sputtering Targets
WO2013049274
Art A2
4. April 2013
Anmelder: H. C. Starck Inc 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013049274
- Aktenzeichen
- EP12787170
- Anmeldetag
- 27. September 2012
- Veröffentlichung
- 4. April 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- H. C. Starck Inc
- Land
- 🇺🇸 USA
🇩🇪
H.C. Starck
H.C. Starck ist ein deutsches Unternehmen für Spezialmetalle und Werkstoffe wie Tantal und Wolfram mit Sitz in Goslar. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterwerkstoffe, ergänzt durch Fertigungs- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2019.
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