Large-Area Sputtering Targets

WO2013049274 Art A2 4. April 2013

Anmelder: H. C. Starck Inc 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2013049274
Aktenzeichen
EP12787170
Anmeldetag
27. September 2012
Veröffentlichung
4. April 2013
Rechtsraum
WO
IPC
C23C14/34
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
H. C. Starck Inc
Land
🇺🇸 USA
🇩🇪 H.C. Starck

H.C. Starck ist ein deutsches Unternehmen für Spezialmetalle und Werkstoffe wie Tantal und Wolfram mit Sitz in Goslar. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterwerkstoffe, ergänzt durch Fertigungs- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2019.

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