Method for setting the intensity distribution in an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus, and optical system

WO2013050198 Art A1 11. April 2013

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013050198
Aktenzeichen: EP12759379
Anmeldetag: 13. August 2012
Veröffentlichung: 11. April 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/20G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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