Film formation apparatus, film formation method, and storage medium

WO2013051355 Art A1 11. April 2013

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013051355
Aktenzeichen: EP12837726
Anmeldetag: 31. August 2012
Veröffentlichung: 11. April 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B29C33/56B29C59/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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