Plasma apparatus and substrate-processing apparatus

WO2013055056 Art A1 18. April 2013

Anmelder: Korea Advanced Institute Of Science And Technology, Wintel Co., Ltd 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013055056
Aktenzeichen: EP12839536
Anmeldetag: 2. Oktober 2012
Veröffentlichung: 18. April 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Korea Advanced Institute Of Science And Technology
Wintel Co., Ltd
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 KAIST

Südkoreanische technische Universität und Forschungsinstitution mit Fokus auf Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologieentwicklung, unter anderem in Robotik und Elektronik.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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