Sputtering target and use thereof
WO2013056968
Art A1
25. April 2013
Anmelder: Heraeus Materials Technology GmbH & Co. KG, Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung E.V. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013056968
- Aktenzeichen
- EP12762660
- Anmeldetag
- 28. September 2012
- Veröffentlichung
- 25. April 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/08C23C14/34C23C14/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Heraeus Materials Technology GmbH & Co. KG
Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung E.V. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Fraunhofer-Gesellschaft
Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.
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